立法院院会今日审查通过专利法部分条文修正草案，放宽优惠期制度相关要件，包括将发明及新型专利之优惠期期间，自本国申请案申请日前6个月放宽为12个月，并将发明、新型及设计专利得适用优惠期之公开态样，放宽为凡出于申请人本意或非本意的公开皆得适用，同时删除须于申请时声明主张优惠期之程序要件。
此次修法松绑优惠期相关要件，扩大为申请前公开之人获得专利保护之可能性，有利于创新及技术的流通。新修正条文经总统令公布后，其施行日期将由行政院另行订定。